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Agente de Limpeza para Semicondutores HFO-1233zd(Z) - Limpeza de Precisão de Grau Semicondutor, Substituição Sustentável e em Conformidade Regulatória do HCFC-141B para Limpeza Industrial Versátil

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Agente de Limpeza para Semicondutores HFO-1233zd(Z) - Limpeza de Precisão de Grau Semicondutor, Substituição Sustentável e em Conformidade Regulatória do HCFC-141B para Limpeza Industrial Versátil

Nome da marca:	Chemfine
Número do modelo:	HFO-1233zd
MOQ:	1000kg
Condições de pagamento:	L/C,T/T

Informações detalhadas

Descrição do produto

Informações detalhadas

Lugar de origem:

China

Destacar:

Limpeza de precisão de nível semicondutor HFO-1233zd(Z)

Substituição de HCFC-141B sustentável e em conformidade com as regulamentações

Solução Versátil de Limpeza Industrial Agente de Limpeza para Semicondutores

Descrição do produto

Substituição de agentes de limpeza de semicondutores

HCFC-141B HFO-1233zd HFO-1336mz FS-39 HCFCs de substituição Cas 99728-16-2

Pontos de venda do produto

Substituto ideal do HCFC-141B:Nosso HFO-1233zd(Z oferece desempenho de limpeza equivalente ao HCFC-141B com perfil ambiental superior, tornando-o o substituto perfeito para os processos de limpeza existentes.
Limpeza de precisão para semicondutores:Com uma pureza ultra-alta e níveis de impurezas controlados, o nosso CAS 99728-16-2 é especialmente concebido para limpeza de wafers de semicondutores, remoção de fotoresistentes e limpeza de componentes eletrónicos de precisão.
Sustentabilidade e conformidade com a regulamentação:Potencial zero de degradação da camada de ozono e potencial de aquecimento global ultra-baixo, em plena conformidade com o Protocolo de Montreal, os regulamentos da UE sobre gases fluorados e o programa SNAP da EPA dos EUA.
Solução de limpeza industrial versátil:Adequado para uma ampla gama de aplicações, incluindo desengraxagem de metais, limpeza de componentes aeroespaciais, desengraxagem de vapor e sistemas de limpeza à base de solventes.
Seguro e fácil de manusear:Não inflamável, de baixa toxicidade, compatível com os materiais mais comuns utilizados nos equipamentos de limpeza industrial, reduzindo os riscos operacionais e simplificando a integração dos processos.

Introdução ao produto

HFO-1233zd(Z), também conhecido como Cis-1-cloro-3,3,3-trifluoropropeno, é identificado pelo número CAS 99728-16-2. É um solvente de hidrofluoroolefina (HFO) ecológico de próxima geração, especialmente desenvolvido como substituto de alto desempenho do HCFC-141B,HFO-1336mz, FS-39 e outros HCFC e solventes fluorados de alto GWP que destroem a camada de ozono.

Com potencial de depleção zero da camada de ozono (ODP), potencial de aquecimento global (GWP) extremamente baixo e excelente capacidade de solvência,O HFO-1233zd ((Z) tornou-se o agente de limpeza preferido para a indústria de fabricação de semicondutores e eletrônicosÉ amplamente utilizado na limpeza de precisão, desengraçamento de vapor, remoção de resíduos fotoresistentes e outros processos críticos de limpeza industrial,fornecer um desempenho de limpeza confiável, ajudando os fabricantes a cumprir as regulamentações ambientais globais.

Aplicações detalhadas

Fabricação de semicondutores e electrónica

Utilização primária para limpeza de precisão de wafers semicondutores, removendo resíduos de fotoresistência, contaminantes orgânicos e partículas finas de wafers e componentes eletrónicos;Ideal para processos de limpeza de sala limpa.

Desengraçamento por vapor industrial

Utilizado em sistemas de desengraçamento a vapor para componentes metálicos, plásticos e cerâmicos, removendo eficazmente óleos, graxas, resíduos de fluxo e fluidos de usinagem.

Engenharia aeroespacial e de precisão

Para limpeza de componentes aeroespaciais de alta precisão, peças ópticas e dispositivos médicos, garantindo zero resíduos e elevados padrões de limpeza.

Refrigerador e Auxiliar de sopro de espuma

Também utilizado como agente de sopro de baixo GWP para espumas de poliuretano e como componente de misturas de refrigerantes de baixo GWP.

Limpeza industrial geral

Adequado para a desengraxagem pesada, limpeza de placas de circuito e outras aplicações de limpeza industrial que exijam alta solvência e conformidade ambiental.

Propriedades físicas básicas

Imóveis	Valor/Descrição
Número CAS	99728-16-2
Nome químico	Cis-1-cloro-3,3,3-trifluoropropeno (HFO-1233zd(Z))
Fórmula molecular	(Z) -CF3CH=CHCl
Peso Molecular	130.5 g/mol
Ponto de ebulição (1 atm)	390,0 °C
Ponto de fusão	- 101,0 °C
Densidade do líquido (20°C, 760 mmHg)	1.312±0,06 g/cm3
Viscosidade a 25°C	00,37 mPa·s
Pressão de vapor a 20°C	49 kPa
Solubilidade em água	950 ppm
Ponto de inflamação	Nenhum
Valor KB	34

Especificações técnicas

Ponto de referência	Especificações	RESULTADO STANDARD
Pureza (Wt%)	≥ 99.8	≥ 99.8
Umidade (Wt%)	≤ 0.002	≤ 0.002
Acidez (em HCl, Wt%)	≤ 0.0001	≤ 0.0001
Resíduo de evaporação (Wt%)	≤ 0.01	≤ 0.01
Teste de cloreto	Passe	Passe

Aplicações especializadas

Limpeza de wafers de semicondutores

O nosso HFO-1233zd(Z) é especialmente formulado para os requisitos rigorosos da fabricação de semicondutores, removendo efetivamente resíduos fotoresistentes,Contaminantes orgânicos e partículas submicrônicas de wafers de silício sem danificar as delicadas estruturas das wafersA sua ultra-alta pureza garante zero contaminação, tornando-o ideal para a produção de semicondutores avançados.

Desengraçamento de vapor de precisão

Com um ponto de ebulição adequado e excelente solvência, o HFO-1233zd(Z) é perfeito para sistemas de desengraçamento a vapor, proporcionando uma limpeza rápida e sem resíduos para o metal,Componentes de plástico e cerâmica em toda a indústria automóvelA sua natureza não inflamável garante uma operação segura em equipamentos de degreasão a alta temperatura.

HCFC-141B e substituição de solventes de alto GWP

Como substituto de HCFC-141B, HFO-1336mz, FS-39 e outros solventes fluorados de alto GWP,Nosso HFO-1233zd(Z mantém um desempenho de limpeza equivalente, eliminando o risco de depleção da camada de ozônio e reduzindo a pegada de carbono, ajudando os fabricantes a fazerem uma transição suave para processos de limpeza ambientalmente compatíveis sem modificações de equipamento dispendiosas.

Embalagem e Logística

Embalagem padrão:25 kg de tambores de aço aprovados pela ONU, 250 kg de tambores de aço ou 1000 kg de bolsas IBC.

Armazenamento:Manter longe da luz solar direta, fontes de calor e materiais incompatíveis.

Classe de segurança:Não inflamável, químico de baixa toxicidade, em conformidade com os regulamentos internacionais de transporte de mercadorias perigosas.

Sinônimos

Cis-1-cloro-3,3,3-trifluoropropeno; HFO-1233zd(Z); HFO-1233zd; Z-HFO-1233zd; HCFC-141B Substituto; CAS 99728-16-2

Perguntas Frequentes

P: O HFO-1233zd(Z) é um substituto direto do HCFC-141B?

R: Sim, o HFO-1233zd(Z) tem solvência, ponto de ebulição e compatibilidade material semelhantes ao HCFC-141B, tornando-o um substituto quase automático para a maioria dos processos de limpeza e desengraçamento existentes,com modificações mínimas ou nulas do equipamento necessárias.

P: Qual é o perfil ambiental do HFO-1233zd(Z)?

A: O HFO-1233zd(Z tem um potencial de depleção zero da camada de ozono (ODP) e um potencial de aquecimento global (GWP) ultra-baixo inferior a 1, o que o torna totalmente compatível com o Protocolo de Montreal,Regulamento da UE relativo aos gases fluorados e programa SNAP da EPA dos EUA para utilização como solvente de limpeza.

P: O HFO-1233zd(Z) é inflamável?

R: Não, o HFO-1233zd(Z) não tem ponto de inflamação, o que o torna não inflamável em condições normais de funcionamento, o que reduz significativamente os riscos de incêndio em instalações industriais de limpeza e fabrico.

P: Que graus de pureza de HFO-1233zd(Z) oferece?

R: Oferecemos qualidade industrial padrão (pureza ≥99,5%) e qualidade electrónica/semicondutor (pureza ≥99,8%) HFO-1233zd(Z), com controlo rigoroso da humidade,acidez e impurezas residuais para satisfazer as necessidades de diferentes aplicações.

Etiquetas:

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2 4 6-Tri- (6-aminocaproic ácido) - 1 triazine 3 5

modificador da pintura do cas 80584-91-4

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Agente de Limpeza para Semicondutores HFO-1233zd(Z) - Limpeza de Precisão de Grau Semicondutor, Substituição Sustentável e em Conformidade Regulatória do HCFC-141B para Limpeza Industrial Versátil

Nome da marca:	Chemfine
Número do modelo:	HFO-1233zd
MOQ:	1000kg
Condições de pagamento:	L/C,T/T

Informações detalhadas

Descrição do produto

Informações detalhadas

Lugar de origem:

China

Marca:

Chemfine

Número do modelo:

HFO-1233zd

Quantidade de ordem mínima:

1000kg

Termos de pagamento:

L/C,T/T

Destacar:

Limpeza de precisão de nível semicondutor HFO-1233zd(Z)

Substituição de HCFC-141B sustentável e em conformidade com as regulamentações

Solução Versátil de Limpeza Industrial Agente de Limpeza para Semicondutores

Descrição do produto

Substituição de agentes de limpeza de semicondutores

HCFC-141B HFO-1233zd HFO-1336mz FS-39 HCFCs de substituição Cas 99728-16-2

Pontos de venda do produto

Substituto ideal do HCFC-141B:Nosso HFO-1233zd(Z oferece desempenho de limpeza equivalente ao HCFC-141B com perfil ambiental superior, tornando-o o substituto perfeito para os processos de limpeza existentes.
Limpeza de precisão para semicondutores:Com uma pureza ultra-alta e níveis de impurezas controlados, o nosso CAS 99728-16-2 é especialmente concebido para limpeza de wafers de semicondutores, remoção de fotoresistentes e limpeza de componentes eletrónicos de precisão.
Sustentabilidade e conformidade com a regulamentação:Potencial zero de degradação da camada de ozono e potencial de aquecimento global ultra-baixo, em plena conformidade com o Protocolo de Montreal, os regulamentos da UE sobre gases fluorados e o programa SNAP da EPA dos EUA.
Solução de limpeza industrial versátil:Adequado para uma ampla gama de aplicações, incluindo desengraxagem de metais, limpeza de componentes aeroespaciais, desengraxagem de vapor e sistemas de limpeza à base de solventes.
Seguro e fácil de manusear:Não inflamável, de baixa toxicidade, compatível com os materiais mais comuns utilizados nos equipamentos de limpeza industrial, reduzindo os riscos operacionais e simplificando a integração dos processos.

Introdução ao produto

Aplicações detalhadas

Fabricação de semicondutores e electrónica

Desengraçamento por vapor industrial

Utilizado em sistemas de desengraçamento a vapor para componentes metálicos, plásticos e cerâmicos, removendo eficazmente óleos, graxas, resíduos de fluxo e fluidos de usinagem.

Engenharia aeroespacial e de precisão

Para limpeza de componentes aeroespaciais de alta precisão, peças ópticas e dispositivos médicos, garantindo zero resíduos e elevados padrões de limpeza.

Refrigerador e Auxiliar de sopro de espuma

Também utilizado como agente de sopro de baixo GWP para espumas de poliuretano e como componente de misturas de refrigerantes de baixo GWP.

Limpeza industrial geral

Adequado para a desengraxagem pesada, limpeza de placas de circuito e outras aplicações de limpeza industrial que exijam alta solvência e conformidade ambiental.

Propriedades físicas básicas

Imóveis	Valor/Descrição
Número CAS	99728-16-2
Nome químico	Cis-1-cloro-3,3,3-trifluoropropeno (HFO-1233zd(Z))
Fórmula molecular	(Z) -CF3CH=CHCl
Peso Molecular	130.5 g/mol
Ponto de ebulição (1 atm)	390,0 °C
Ponto de fusão	- 101,0 °C
Densidade do líquido (20°C, 760 mmHg)	1.312±0,06 g/cm3
Viscosidade a 25°C	00,37 mPa·s
Pressão de vapor a 20°C	49 kPa
Solubilidade em água	950 ppm
Ponto de inflamação	Nenhum
Valor KB	34

Especificações técnicas

Ponto de referência	Especificações	RESULTADO STANDARD
Pureza (Wt%)	≥ 99.8	≥ 99.8
Umidade (Wt%)	≤ 0.002	≤ 0.002
Acidez (em HCl, Wt%)	≤ 0.0001	≤ 0.0001
Resíduo de evaporação (Wt%)	≤ 0.01	≤ 0.01
Teste de cloreto	Passe	Passe

Aplicações especializadas

Limpeza de wafers de semicondutores

Desengraçamento de vapor de precisão

HCFC-141B e substituição de solventes de alto GWP

Embalagem e Logística

Embalagem padrão:25 kg de tambores de aço aprovados pela ONU, 250 kg de tambores de aço ou 1000 kg de bolsas IBC.

Armazenamento:Manter longe da luz solar direta, fontes de calor e materiais incompatíveis.

Classe de segurança:Não inflamável, químico de baixa toxicidade, em conformidade com os regulamentos internacionais de transporte de mercadorias perigosas.

Sinônimos

Cis-1-cloro-3,3,3-trifluoropropeno; HFO-1233zd(Z); HFO-1233zd; Z-HFO-1233zd; HCFC-141B Substituto; CAS 99728-16-2

Perguntas Frequentes

P: O HFO-1233zd(Z) é um substituto direto do HCFC-141B?

P: Qual é o perfil ambiental do HFO-1233zd(Z)?

P: O HFO-1233zd(Z) é inflamável?

P: Que graus de pureza de HFO-1233zd(Z) oferece?

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